Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) 2

Informasjon

Prosedyre

Åpen anbudskonkurranse

Publiseringsdato

07.05.2025 13.12 (GMT+02:00)

Tilbudsfrist

01.11.2023 23.59 (GMT+01:00)

Innkjøper

Oppdragsgiver

Lunds Universitet

Avdeling

Kontakt

Elna Rosén

Adresse

Box 117
22100 Lund
Sverige

Org.nr.

202100-3211

Dato for innlevering er passert

Kort beskrivelse

The procurement includes delivery, installation and commissioning of one Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System. The system will be used by a large number of operators in a university laboratory environment. It must be easy to use and be insensitive to frequent change of process between batches. The system is intended for deposition of thin layers of silicon dioxide (SiO2) and as close to “stoichiometric” silicon nitride (Si3N4) as possible.

Filer (klikk på filnavn for å laste ned)

Tittel	Størrelse
Questions and answers.pdf	34 KB
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System.pdf	428 KB
Award decision.pdf	76 KB

Mercell Norge AS

Del av Mercell-gruppen, en av Europas ledende leverandører av elektroniske anbudsverktøy og informasjon mellom innkjøpere og leverandører i det profesjonelle markedet.

Våre hovedprodukter

Anbudsvarsling
Konkurrentovervåkning
Markedsanalyse
Skybaserte anbudsverktøy
Kurs for innkjøpere og leverandører

Mercell

Samarbeidspartnere
Etiske retningslinjer
Ledige stillinger
Kontorer
Anbudsarkiv
ISO 27001
Om oss
Referanser
Investor
Veiledninger og FAQ

Kontakt oss

Klikk her for å gå til support

+47 21 01 88 05

Mercell Norge AS | Askekroken 11, 0277 OSLO, Norge