Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD) 2

Information

Öppet förfarande
2025-05-07 13:12 (GMT+02:00)
2023-11-01 23:59 (GMT+01:00)

Inköpare

Lunds Universitet Lunds Universitet
Elna Rosén Elna Rosén
Box 117
22100 Lund
Sverige
202100-3211

Anbudsfristen har passerat.

Kort beskrivning

The procurement includes delivery, installation and commissioning of one Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System. The system will be used by a large number of operators in a university laboratory environment. It must be easy to use and be insensitive to frequent change of process between batches. The system is intended for deposition of thin layers of silicon dioxide (SiO2) and as close to “stoichiometric” silicon nitride (Si3N4) as possible.

Dokument (klicka på filnamnet för att ladda ner)

Namn Filstorlek
Questions and answers.pdf 34 KB
Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition System.pdf 428 KB
Award decision.pdf 76 KB

Mercell Commerce

Del av Mercellgruppen, en av Europas ledande leverantörer av elektroniska upphandlings- och anbudssystem på den professionella marknaden.

Kontakta oss

Klicka här för att gå till vår support

+46 13 39 00 32 0
Mercell Commerce | Klara Södra kyrkogata 1, 11152 Stockholm, Sverige