Deep reactive ion etcher tool

Hange

Hanke tüüp

02 - Contract notice

Teate liik

Avatud menetlus

Avaldamise kuupäev

06.12.2021 15:19 (GMT+02:00)

Pakkumuste esitamise tähtaeg

18.01.2022 0:59 (GMT+02:00)

Hankija

Ettevõte/asutus

Kungliga Tekniska högskolan

Osakond

Kontaktisik

Karin Edoff

Aadress

Drottning Kristinas väg 6
11428 Stockholm
Rootsi

Reg. nr

202100-3054

Koduleht

www.kth.se

Hange on lõppenud

Hanke lühikirjeldus

Purpose of procurement KTH is seeking tenders for a new state-of-the-art research tool to be placed in the clean-room of eLAB at KTH, for research on deep-etching of silicon wafers by plasma. Mainly used for research in micro-electromechanical systems and nanotechnology.

Hankele lisatud dokumendid

Dokumendi nimi	Faili suurus
1-AllDocuments.pdf	525 KB
Samtlige+vedlagte+dokumenter.zip	648 KB

Mercell Estonia OÜ

Mercelli gruppi kuuluv Euroopa juhtiv e-hanke keskkond vahendab infot ostjate ja tarnijate vahel.

Teenused

Ettevõtetele
Avalikule sektorile
Eraisikule
Korteriühistule

Info

Hanked
Riigihanked
Hankeplaanid
Hanked.ee - riigihanked

Kontakt

Mercell Eesti kasutajatugi

+372 683 6785