Deep reactive ion etcher tool

Hankinnan yleistiedot

02 - Hankintailmoitus (2)
Avoin menettely
6.12.2021 15.19 (GMT+02:00)
18.1.2022 0.59 (GMT+02:00)

Hankintayksikkö

Kungliga Tekniska högskolan Kungliga Tekniska högskolan
Karin Edoff Karin Edoff
Drottning Kristinas väg 6
11428 Stockholm
Ruotsi
202100-3054

Määräaika on umpeutunut

Lyhyt kuvaus

Purpose of procurement KTH is seeking tenders for a new state-of-the-art research tool to be placed in the clean-room of eLAB at KTH, for research on deep-etching of silicon wafers by plasma. Mainly used for research in micro-electromechanical systems and nanotechnology.

Hankinta-asiakirjat

Tiedosto Koko
1-AllDocuments.pdf 525 KB
Samtlige+vedlagte+dokumenter.zip 648 KB

Mercell Suomi Oy

Osa Mercell-ryhmää, Euroopan johtavaa hankintapalvelujen sekä sähköisen kilpailutusjärjestelman tuottajaa.

Yleistä hankinnoista

Hankintalaki
TED

Yhteydenotto

Klikkaa tästä asiakaspalveluun

+358 207 661 072