Atomic Layer Deposition system

Hange

15.06.2026 15:15 (GMT+03:00)
07.07.2026 0:59 (GMT+03:00)

Hankija

Linköpings Universitet Linköpings Universitet
Anders Jonsson Wiberg
Linköping
58183 Linköping
Rootsi
202100-3096

Hanke lühikirjeldus

LiU require an Atomic Layer Deposition (ALD) system for laboratory-scale thin film deposition. The system should support both thermal and plasma processes, with low-temperature capabilities suitable for a variety of materials, primarily oxides.

Hankele lisatud dokumendid

Dokumendi nimi Faili suurus
InitialDocuments_10867051.zip 1,34 MB

Mercell Estonia OÜ

Mercelli gruppi kuuluv Euroopa juhtiv e-hanke keskkond vahendab infot ostjate ja tarnijate vahel.

Kontakt

Mercell Eesti kasutajatugi

+372 683 6785
Mercell Estonia OÜ | Põhja puiestee 21C, 10143 Tallinn, Eesti