Sub-micron Direct Photolithography System

Hange

15 - Voluntary ex ante transparency notice
Negotiated procedure without prior publication
28.10.2020 10:29 (GMT+02:00)

Hankija

Kungliga Tekniska högskolan Kungliga Tekniska högskolan
Karin Edoff Karin Edoff
Brinellvägen 8
10044 Stockholm
Rootsi
202100-3054

Eesmärk

The Albanova Nanolab (ANL) at KTH requires a sub-micron photolithography system capable of direct writing in common photoresists with sub-micron resolution at high through-put.

Mercell Estonia OÜ

Mercelli gruppi kuuluv Euroopa juhtiv e-hanke keskkond vahendab infot ostjate ja tarnijate vahel.

Kontakt

Mercell Eesti kasutajatugi

+372 683 6785
Mercell Estonia OÜ | Põhja puiestee 21C, 10143 Tallinn, Eesti