Instrumentet vil brukes til bildedanning og kjemisk analyse (kjemisk analyse som opsjon) av ulike materialer:
-Fra isolatorer, halvledere til metaller
-Små nm partikler, magnetiske og ikke magnetiske
-Materialer som avgir rester av organisk materiale eller fuktighet i elektronstrålen
Typisk bruk av instrumentet vil være:
-Måling av partikler for størrelsesfordeling, ned til 3-4 nm, bestemmelse av struktur og kjemisk analyse
-Måling av partikler i området 10-50 nm med 2-10 nm belegg. Kjemisk analyse og tykkelse av belegg.
-Karakterisering av tynne filmer, typisk 100 nm på ulike substrater (typisk Si). Karakterisering av filmtopografi som alternativ til AFM inkludert tverrsnitt av underlag for brutte filmer. For dette formål god kontrast mellom film og underlag er avgjørende.
-Undersøkelse av porestruktur (<5-10 nm) porøse isolerende materialer.
For alle anvendelsene er kjemisk analyse (EDS) å betrakte som opsjoner.
Merk: For å melde din interesse i denne kunngjøringen og motta tilleggsinformasjon vennligst besøk Doffin nettsiden http://www.doffin.no/Search/Search_Switch.aspx?ID=299285.