Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etch Tool/ICP-RIE System

Informācija

03 - Contract award notice
Atklāts konkurss
18.09.2020 10:36 (GMT+03:00)

Pasūtītājs

University of Jyväskylä University of Jyväskylä
Seminaarinkatu 15, Jyväskylän yliopisto
40014 Jyväskylä
Somija
0245894-7

Lai saņemtu informāciju par iepirkumiem e-pastā, piesakieties, spiežot uz "Saņemt iepirkumu informāciju" lapas lejasdaļā!

An inductively-coupled-plasma reactive-ion-etcher (ICP-RIE), capable of flexible etching of different materials. Whole system with all required components. Capable of handling wafers up to 200 mm in diameter. There must be a loadlock and (semi)automatic loading of single-wafers and small chips between loadlock and process chamber. The substrate electrode temperature should be controllable between at least -150 °C and 300 °C. Contracting authority (JYU) may suspend the procurement procedure if the tenders exceed the budget available for the procurement. Prior references of supplying comparable systems are required.

Vēlaties saņemt visaptverošu Jūs interesējošās nozares aktuālo iepirkumu informāciju?

Piesakieties Mercell un saņemiet paziņojumus par jaunākajiem iepirkumiem sev svarīgajās nozarēs 7 dienas bez maksas!

SIA Mercell Latvia

Daļa no Mercell grupas – viens no vadošajiem e-iepirkumu platformu un iepirkumu informācijas piegādātājiem Eiropā.

Par uzņēmumu

Par mums
Kontakti

Sazinaties ar mums

Spiediet šeit, lai dotos uz atbalsta lapu

+371 22720771
SIA Mercell Latvia | Dzirnavu iela 37-43, LV-1010 Rīga, Latvija